伟德bv1946官网合美半导体(苏州)有限公司
栏目:行业资讯 发布时间:2026-01-16
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  官方网站   白光轮廓仪测试表面粗糙度,测试视场232174μm时,初始Ra1nm,抛光后Ra1nm;测试视场6448μm时,表面粗糙度增量ΔRa0.1nm。   抛光后表面状态,无新增缺陷;显微镜偏光-微分干涉模式观察,表面无新增缺陷,例如划伤、亮点、氧化擦伤、斑块等;暗场模式下观察,表面无新增缺陷,

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伟德bv1946官网合美半导体(苏州)有限公司

  白光轮廓仪测试表面粗糙度,测试视场232×174μm时,初始Ra≤1nm,抛光后Ra≤1nm;测试视场64×48μm时,表面粗糙度增量ΔRa≤0.1nm。

  抛光后表面状态,无新增缺陷;显微镜偏光-微分干涉模式观察,表面无新增缺陷,例如划伤、亮点、氧化擦伤、斑块等;暗场模式下观察,表面无新增缺陷,例如氧化、黑点、起雾状等。

  抛光后表面颗粒度:显微镜暗场模式下平均测试9点,表面颗粒度≤10/cm²。

  千级(或以上)洁净室使用环境,全工艺过程中不产尘、不引入其他杂质与污染;设备由防腐蚀材料构成,整机防腐,适用于腐蚀性抛光溶剂,如溴甲醇、酸碱等腐蚀剂;

  为实现化学抛光等各种复合工艺,设备支持双通道进料系统,可单独/同时工作,进料速率可实现数字化控制。供液流量控制范围:0~10ml/s;

  转速连续可调:0~100rpm;抛光盘的更换、维护快速而简便,嵌入式盘;

  一体式可拆卸结构,采用行星环绕运动方式;设备台面具有可拆卸性,便于抛光垫更换与零部件的维修;设备运行偏心距离为5mm(即齿轮圆心与玻璃衬底圆心之间距离为5mm);